纳米压印采用接触式压印完成图形的转移，可应用于芯片光刻和AR眼镜光波导方案等领域，是传统复杂光学光刻技术的替代解决方案。苏大维格9月8日在互动平台表示，根据相关资讯，纳米压印光刻技术在集成电路领域的应用可实现更低成本的芯片量产。

　　消息面上，据DIGITIMES资讯显示，SK海力士2023年引进日本光学设备厂佳能纳米压印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）生产设备，正在进行测试与研发，目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。

　　西部证券单慧伟5月25日研报中表示，纳米压印是表面浮雕光波导技术的其中一环，采用表面浮雕光栅替代传统折反射光学元件可实现二维扩瞳，扩大眼动范围，生产制造难度也相对较低。

　　东北证券李玖9月5日研报中指出，纳米光刻设备和纳米压印设备独具优势，将推动波导镜片产业化。

　　据公开资料显示，纳米压印技术，即NanoimprintLithography(NIL)，是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。纳米压印的分辨率由所用印模板图形的大小决定，物理上没有光刻中的衍射限制，纳米压印技术可以实现纳米级线宽的图形。